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  • planck logo,深圳撲浪量子半導體有限公司

    咨詢電話:0755-8482 9717



    X-LED裝備事業部


    裝備事業部介紹:


    撲浪創新X-LED裝備事業部,圍繞公司的量子點半導體材料與半導體顯示應用,研發和制造相關薄膜氣相沉積設備,用于科學研究和工業生產。


    用于制備微納米級薄膜材料的真空氣相沉積設備,包括物理氣相沉積PVD設備與化學氣相沉積CVD設備,是半導體、光電顯示、光伏等制程的關鍵工藝設備,同時也廣泛應用于各類工業零部件的表面處理。本事業部目前可以提供的產品包括:


    磁控濺射薄膜研發設備:可配置1-8套磁控陰極靶位,用于在2-8英寸晶圓表面沉積電子/光學功能薄膜,包括金屬薄膜、介質薄膜、半導體薄膜;


    磁控濺射/多弧離子復合PVD工業鍍膜機:配置離子源、多弧陰極沉積源、磁控陰極沉積源,用于電子、光學、汽車、工具、鐘表、五金、珠寶等工業領域的表面涂層制備;


    OLED/QLED真空蒸鍍設備:可蒸鍍OLED/QLED器件的金屬電極、有機發光層、電子/空穴傳輸層等材料,配置在線掩膜版,可完成整個器件的制備,用于OLED、量子點QLED、有機光伏、鈣鈦礦電池/LED等器件的研發生產;


    金剛石CVD設備:包括制備工業級、熱學級金剛石多晶涂層的熱絲化學氣相沉積(HWCVD)設備,以及制備光學級、電子級以及人工鉆石的金剛石單晶微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備。


    派瑞林CVD設備:制備派瑞林(Parylene)三防薄膜,用于電子線路板、PCBA電子部件、LED/OLED/QLED、醫療器械、磁性材料等產品的表面保護。

     

    PLI-MS-RD系列磁控濺射研發設備

    極限真空: ≤ 5.0×10-5Pa

    可選超高真空配置:極限真空≤1.0×10-6Pa

    磁控陰極: 1-8套陰極靶位,包括磁性材料的濺射陰極

    濺射電源: 直流、脈沖、射頻

    基片溫度 :  可加熱最高800OC

    控制系統:PLC控制,觸摸屏或連接電腦界面操作

    基片尺寸:2-8英寸

    靶材尺寸:2-8英寸

    應用領域:電子/光學功能薄膜制備,表面金屬化,介質薄膜,半導體薄膜制備用于薄膜新工藝研發和小量生產


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    PLI-MPVD系列磁控/多弧/離子源復合PVD鍍膜設備

    ? 磁控濺射/陰極電弧/離子源多功能復合PVD設備

    ? 平面矩形磁控濺射陰極,旋轉陰極可選

    ? 圓弧與平面矩形電弧陰極,可選

    ? 電磁控弧技術,弧斑強分散

    ? 有效減少液滴,提高涂層質量

    ? 腔體內部尺寸:800-1800mm(直徑)×800-1800mm(高)


    可鍍涂層材料:

    ? 金屬:Ti, Cr, Al, Ag,Au,Ni,Cu... 

    ? 氮化物:TiN, CrN, AlN,SiN,TiAlN, TiAlSiN…

    ? 碳化物:TiC,SiC,DLC…

    ? 氧化物:Al2O3,SiO2,TiO2,ZrO2…


    應用領域: 

    ? 消費電子(電磁屏蔽、3C數碼產品部件等)

    ? 汽車工業(活塞、耐磨裝飾鍍膜)

    ? 工具模具(鉆頭、銑刀、拉活塞環、輪轂、發動機摩擦部件)

    ? 鐘表行業(表殼、表帶、表盤等刀、精密模具等硬質涂層)

    ? 五金衛?。ㄐl生潔具、門把手、門鎖、水龍頭等裝飾鍍)

    ? 珠寶工藝品行業(珠寶首飾、工藝品等表面裝飾鍍膜)


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    PLI-OLED系列有機真空蒸鍍設備

    背底真空: 5.0×10-5Pa 

    蒸發源:12套有機/金屬/無機蒸發源

    基片尺寸:1-4 寸方片或圓片

    薄膜沉積監控:4個晶振探頭

    掩膜版:在線掩膜版,在線更換

    電子束蒸發功能模塊:可選,用于金屬/無機材料沉積

    設備集成:與手套箱集成

    應用領域:OLED、量子點QLED、有機光伏、鈣鈦礦電池/LED等


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    PLI-D-CVD系列金剛石CVD設備:


    產品概述:


    采用化學氣相沉積工藝,生產工業級金剛石涂層制品,可應用于工具行業、環保行業、汽車行業、 大功率器件等領域。

     

    產品型號:PLI-CVD-500

    均勻鍍膜面積:500mm直徑范圍

     

    產品特性和優勢:


    u 沉積面積大,可實現工業化金剛石生產

    u 金剛石刀具、拉絲模具、水處理電極、金剛石功率器件等方面具備工藝技術支持

    u 金剛石含量:>92%;涂層硬度:>80Gpa;涂層結合力:>120KG

     

    應用:


    主要面向金剛石先進材料相關科研機構及企業研發生產應用,在陶瓷、金屬等工件表面制備大面積金剛石制品,如金剛石涂層刀具、金剛石涂層拉絲模具、金剛石涂層水處理電極、金剛石密封件和金剛石涂層熱沉材料等。


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    PLI-PC系列派瑞林CVD鍍膜機(ParyleneCoater)

    派瑞林材料:三防薄膜,Parylene

    ? 抗溶解、抗酸堿腐蝕

    ? 耐高低溫(-200OC-140OC)

    ? 防水氣滲透

    ? 耐高電壓,絕緣強度高

    ? 能在各種形狀的表面(包括棱邊、裂縫)形成均一且透明的薄膜

    鍍膜方式:蒸鍍結合化學氣相沉積

    工藝流程:蒸發-高溫裂解-聚合成膜

    應用領域:

    PCBA零部件LED/OLED

    電子線路板醫療器械

    磁性材料文物檔案


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